英特爾公司近日宣布，其位于加利福尼亞州圣何塞的工廠已正式啟用ASML公司提供的首批兩臺先進(jìn)光刻機。據(jù)初步數(shù)據(jù)顯示，這兩款新型光刻機在可靠性方面顯著優(yōu)于之前的機型。

在圣何塞舉行的一次會議上，英特爾高級首席工程師史蒂夫·卡森透露，公司已經(jīng)利用ASML的高數(shù)值孔徑（NA）光刻機在一個季度內(nèi)成功生產(chǎn)了30,000片晶圓。這些晶圓是制造計算機芯片的關(guān)鍵原材料，每片晶圓能產(chǎn)出成千上萬的芯片。值得注意的是，英特爾是全球第一家接收并使用這些新型光刻機的芯片制造商，預(yù)計這些設(shè)備將幫助公司生產(chǎn)出尺寸更小、速度更快的計算芯片。

卡森進(jìn)一步指出，ASML的新型高數(shù)值孔徑光刻機在初步測試階段就展現(xiàn)出了令人矚目的可靠性，大約是舊款機型的兩倍。他強調(diào)說：“我們能夠以穩(wěn)定的速率生產(chǎn)晶圓，這對于整個生產(chǎn)平臺來說無疑是一個巨大的優(yōu)勢?！?/p>

新型ASML光刻機采用先進(jìn)的光束打印技術(shù)，能夠在更少的曝光次數(shù)下完成與舊款機器相同的工作，從而有效節(jié)省生產(chǎn)時間和成本。據(jù)卡森介紹，英特爾工廠的早期測試結(jié)果顯示，高NA光刻機僅需一次曝光和個位數(shù)的處理步驟，就能完成舊款機器需要三次曝光和約40個處理步驟的工作。

這一進(jìn)步對于英特爾來說具有重要意義，因為公司在采用上一代極紫外（EUV）光刻機方面曾落后于競爭對手。過去，英特爾花費了七年時間才將舊款光刻機投入全面生產(chǎn)，而可靠性問題則使其失去了對臺積電的領(lǐng)先地位。此次新型光刻機的引入，標(biāo)志著英特爾在芯片制造技術(shù)領(lǐng)域邁出了重要的一步。

英特爾計劃利用高NA光刻機推動其18A制造技術(shù)的開發(fā)，該技術(shù)預(yù)計將于今年晚些時候與新一代PC芯片一同投入大規(guī)模生產(chǎn)。同時，公司還計劃在其下一代制造技術(shù)14A中全面使用高NA光刻機，但尚未公布該技術(shù)的大規(guī)模生產(chǎn)日期。隨著這些新型光刻機的投入使用，英特爾有望在未來進(jìn)一步提升其芯片制造技術(shù)的競爭力。